氫氣電漿及高溫處理之通道形狀對矽在絕緣體上鰭式電晶體 ...

第一部分,主要為利用實驗室之前成功建立的一套SOIn-FinFET標準製程。Trimming在矽鰭式電晶體的矽通道上,並改變不同氫氣電漿處理時間,來得到較垂直的結構做探討。

氫氣電漿及高溫處理之通道形狀對矽在絕緣體上鰭式電晶體 ...

第一部分,主要為利用實驗室之前成功建立的一套SOI n-FinFET標準製程。Trimming在矽鰭式電晶體的矽通道上,並改變不同氫氣電漿處理時間,來得到較垂直的結構做探討。

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