![第一章緒論](https://i.imgur.com/ELHgPW3.jpeg)
由吳國裕著作·2007·被引用1次—圖2.1ITRS半導體技術藍圖.通常晶片製作所需的光罩數目與微影次數代表了該晶片的複雜程度,而整個IC製程.Page6.6.是否能向更小的特徵尺寸邁進, ...
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